設備名稱

數量

技術指標

真空鍍膜機

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投標人應提供所代表品牌廠商原裝的、全新的、技術先進、性能優良、結構緊湊、便于安裝和維護、符合國家及用戶提出的有關質量標準的設備。設備在正確安裝后，能確保在正常的使用過程中安全、可靠，并達到有關規定的要求。

保修年限：保修期三年，提供上門服務。保修期過后提供上門維修服務。

真空鍍膜機的主要技術要求如下：

一．主體：

1.1主體采用箱式結構，立式前開門，蒸發室和抽氣室為整體焊接式，主機與控電柜一體。

1.2 真空腔體的內腔尺寸為 Ф300mm（直徑） ×360m

（高）；采用不銹鋼材料 ,內表面作拋光處理，外表面為直接焊不銹鋼水管，通冷卻水冷卻；側壁防污板厚度 δ=1mm兩套（其中一套為備用），室內下防污平板厚度 δ=1.5mm一套，防污板為可拆卸式，多片式結構，安裝方式為抽拉式，在室體抽氣口與工作室之間采用葉片擋板和不銹鋼網。真空室外壁采用水冷卻。

1.3真空室門采用不銹鋼材料，內表面作拋光處理，外表面為直接焊不銹鋼水管，通冷卻水冷卻；真空室門上裝有表面涂漆的碳鋼外裝飾板；真空室門上設觀察窗一個，位置在中部，配置 95硬質玻璃和防護鏡。

1.4 主機骨架采用型鋼 (材料 :Q235-A)制造，有可調

節骨架水平的調整螺釘；骨架前面有帶鎖的門；兩側有固定側板。

1.5水冷卻系統：主進、出水分配管采用不銹鋼管制成，各主要冷卻部位均單獨供水冷卻。水路加裝水流保護，有斷水報警，并有水流量顯示。

二．真空系統：

2.1極限真空度為： 3×10^{－ 4}Pa。

2.2回復真空時間：大氣至 4×10^{－ 3}Pa≤15min。

2.3真空保持度：在真空室達到極限真空度后，關閉高真空閥 12小時后，真空室真空度 ≤10Pa。

2.4 真空系統配置：主泵： 700L/S分子泵 1臺；前級泵 :15L/S直聯泵 1臺。真空系統管道采用不銹鋼鋼材料，管道軟連接處采用金屬波紋管；各真空閥門為氣動閥門。

2.5真空系統測量：配三路數字復合真空計壹套（兩路低真空電阻規，一路高真空電離規）。高真空電離規安裝在真空箱體抽氣室頂部靠近工作室一側。電阻規一組安裝在真空箱體抽氣室頂部，另一組安裝在主泵前級管道上。各個測量規管垂直安裝，玻璃真空規管均有金屬保護罩。

2.6真空系統操作：包含手動和程序自動兩種模式。

三．工件架系統：

  平面工件盤 2個，采用吊掛式連接方式。工件架及工件盤材料采用鋁合金材質，工件架轉速 3~20rpm交流變頻調速，上驅動方式，工件轉動采用磁流體密封，工件盤軸向，徑向跳動小于等于正負 2.5mm，轉動支承部位配有水冷套。

四．烘烤系統：

4.1烘烤方式：下烘烤，一點控溫。

4.2烘烤器件：加熱器采用燈管加熱器，配溫控儀制表精度為 ±1℃，控溫方式為 PID自動控溫及顯示。

4.3烘烤功率：燈管加熱器選配： 2kw

4.4溫度：最高溫度為 300℃， 溫度可控可調。

五．電阻蒸發源：

兩組水冷式電阻蒸發源，輸出功率 3KW/組。阻蒸電源：蒸發電流可以穩定工作在 350A，時間 5分鐘。

六．石英晶體膜厚控制系統：

進口石英晶體測厚儀一臺，及相應的控制系統，可進行電阻蒸發源蒸發速率控制及蒸發源擋板聯動 .

6.1鍍膜層數要求： 1-99用戶確定

6.2鍍膜工藝數量： 1-99用戶確定

6.3鍍膜材料要求：用戶確定

6.4鍍膜坩堝選擇：自動或手動

6.5擋板控制：自動或手動

6.6單層鍍膜速率參數可設定： 0.1A/s-50A/s，

6.7單層鍍膜厚度參數可設定： 0.1A-5000A，

6.8鍍膜過程中功率可控可調： 0-800mA，

6.9單層鍍膜完成后，可設定手動確認進入下一層或是自動進入下層，

6.10鍍膜過程中要求：鍍膜過程中有故障時，可暫停并報警輸出。

七．棒狀離子轟擊裝置：交流電壓 2400V，電流 500mA

八．電氣控制系統：

8.1屏控制，控電柜采用并柜方式，儀表安裝柜采用國際標準 19英寸柜，另一側作為電器元件安裝柜結構為大板式，便于安裝維護，元器件損壞時應易于檢測和更換。

8.2控電柜內主要電器外購件均選用通過 CE認證或 ISO9001認證的生產廠商的產品，確保安全可靠。

8.3控電柜和主機內高壓部分均有防護罩，提高設備安全性

九． 設備使用手冊：

提供產品說明書、電路原理圖、維護、保養、常見故障的判斷及維修手冊。